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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻工艺
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chenmeng_413

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻工艺

请教一下高手，我在用正胶做光刻，可做出来的效果都不怎么理想，有没有能提供一些相关参数的，本人感激不尽！
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1楼 2013-11-21 20:38:33
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幸福少爷

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你这个描述的不清楚，图形不理想有很多种，首先要把结果摆出来才好给你分析，起码要拍个显微镜吧。光刻结果受很多条件影响: 光刻胶显影液质量、匀胶厚度、曝光时间、光强、显影时间等......    每种影响因素会导致不同的结果产生，so，去拍照吧
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Youjustfocus
2楼2013-11-22 09:30:02
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ydeng2639

木虫 (小有名气)

半导体纳米材料

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
除以上基本问题，还有
做的线宽和线距是多少？
用的是哪个型号的光刻设备？
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不做专家对不起自己
3楼2013-11-22 10:04:00
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
1没有光刻胶的型号，2没有照片甚至所谓不理想的描述，3没有图形的尺寸和结构，4没有光刻设备和环境的说明。

你这个问题就是“麻烦大家猜猜我脑子里是咋想的吧”
你老板是怎么教的？最基本的科研教育都没有啊！
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4楼2013-11-22 11:47:32
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