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三平方

金虫 (小有名气)


[求助] 用氧化硅做绝缘层制作FET器件。(求助)

我用pecvd方法镀了一层200nm的氧化硅薄膜当成绝缘层制成FET器件,测量时栅源之间的电流和源漏之间的电流可以比拟,是氧化硅薄膜的问题吗?各位大侠指点。
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
三平方: 金币+10 2013-11-21 15:03:48
一般来说,栅氧很少用PECVD来做,都是LPCVD或者直接热氧。PECVD做栅的介质层,一般都是做氮氧化硅,或者氮化硅。
PECVD作出的氧化层,密度和缺陷都远比热氧要差。
2楼2013-11-21 13:15:36
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