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郁闷，急死了，电工或材料专业的同学帮帮忙啊！
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我是做超导薄膜及隔离层的。基底为单晶LAO和YSZ 问题一：我用铜靶的XRD分析薄膜的物象组成及择优生长取向，为什么有时能看到完好的薄膜衍射峰，有时却只能看到基底的衍射峰。是薄膜太薄还是薄膜有裂纹造成的？SEM观察排除后者。从工艺条件上和裸眼观察膜的颜色都不象是由于薄厚引起的。那究竟是什么原因引起的，怎样才能得到薄膜的物象组成？ 后来采用钴靶的掠射测试，得到了单一的薄膜的衍射峰。但由掠射测试要求高精度的衍射仪,测试困难。 问题二：四引线测薄膜电阻，基片只有一厘米长，很难焊接，用导电胶固化后电阻较大，显示不出结果。请问有没有专用的夹具或其它解决办法？ 求虫友们出谋划策，十分感谢！ |
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骄阳2007(金币+10,VIP+0):非常感谢！希望虫友能留下联系方式，以便大家互相交流
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第一个问题： XRD测量薄膜样品时可以调一个参数，offset。样品直接放到样品台上对准性并不怎么好。由于基本是外延生长，所以薄膜的取向和基片（单晶）的基本一致，但后者的XRD强度要大的多。出现你的问题是测量时没有对准。正确的方法是：先设定不同的offset(尝试）找到基片的特征缝最强的offset值，然后在此offset下测量薄膜的XRD.一般offset在－1——1直接变动就够了。 第二个问题：在薄膜上溅射金属薄膜电极（溅射金属薄膜，挡住不需溅射的地方），然后用银导电胶连接即可。 |
5楼2007-12-21 17:05:27
dullrobber
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3楼2007-12-19 21:34:21
liu2004m
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4楼2007-12-19 22:28:44
