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郁闷,急死了,电工或材料专业的同学帮帮忙啊!
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我是做超导薄膜及隔离层的。基底为单晶LAO和YSZ 问题一:我用铜靶的XRD分析薄膜的物象组成及择优生长取向,为什么有时能看到完好的薄膜衍射峰,有时却只能看到基底的衍射峰。是薄膜太薄还是薄膜有裂纹造成的?SEM观察排除后者。从工艺条件上和裸眼观察膜的颜色都不象是由于薄厚引起的。那究竟是什么原因引起的,怎样才能得到薄膜的物象组成? 后来采用钴靶的掠射测试,得到了单一的薄膜的衍射峰。但由掠射测试要求高精度的衍射仪,测试困难。 问题二:四引线测薄膜电阻,基片只有一厘米长,很难焊接,用导电胶固化后电阻较大,显示不出结果。请问有没有专用的夹具或其它解决办法? 求虫友们出谋划策,十分感谢! |
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sxyxs13754
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2楼2007-12-18 21:14:46
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4楼2007-12-19 22:28:44
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骄阳2007(金币+10,VIP+0):非常感谢!希望虫友能留下联系方式,以便大家互相交流
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第一个问题: XRD测量薄膜样品时可以调一个参数,offset。样品直接放到样品台上对准性并不怎么好。由于基本是外延生长,所以薄膜的取向和基片(单晶)的基本一致,但后者的XRD强度要大的多。出现你的问题是测量时没有对准。正确的方法是:先设定不同的offset(尝试)找到基片的特征缝最强的offset值,然后在此offset下测量薄膜的XRD.一般offset在-1——1直接变动就够了。 第二个问题:在薄膜上溅射金属薄膜电极(溅射金属薄膜,挡住不需溅射的地方),然后用银导电胶连接即可。 |
5楼2007-12-21 17:05:27













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