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离子束辐照引入缺陷能级是否属于非故意掺杂?
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离子束辐照引入缺陷能级是否属于非故意掺杂?
如题。
请教各位,求告知。
多谢你的参与~~
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2013-11-17 22:45:10
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【材料学】doping
在一种材料(基质)中,掺入少量其他元素或化合物,以使材料(基质)产生特定的电学、磁学和光学性能,从而具有实际应用价值或特定用途的过程称为掺杂。
例如,在半导体硅中掺入磷或镓可以得n型或p型半导体材料,由此制出各式各样的半导体器件。在一些无机固体化合物中掺入不同的金属离子,可以得到不同性质的发光材料,如氧化钇(III)中掺入铕(III)离子可以得到发红光的荧光材料。
掺杂原子或离子的浓度对材料性质影响很大,需要在实验中严格控制。不同的体系和化合物所采用的掺杂方法也不同。半导体材料多用气相沉积法或离子束溅射法掺杂。发光材料则多用化学方法,并在一定温度下灼烧,使晶体中的掺杂离子均匀分布。
我想离子束辐照应该也属于一种掺杂。
大家的意见呢?
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5楼
2013-11-18 21:58:47
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2013-11-18 13:36:15
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zhenwuhuang
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xiegy1: 金币+1, 粒子束辐照可以引入深能级缺陷,属于掺杂么?
2013-11-18 21:55:37
粒子束辐照在AlGaAs/GaAs量子阱材料中引入的深能级缺陷
http://mall.cnki.net/magazine/Article/RGJT2000S1261.htm
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3楼
2013-11-18 13:59:15
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:
Originally posted by
zhenwuhuang
at 2013-11-18 13:59:15
粒子束辐照在AlGaAs/GaAs量子阱材料中引入的深能级缺陷
http://mall.cnki.net/magazine/Article/RGJT2000S1261.htm
否属于非故意掺杂呢?
怎么才算掺杂?
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4楼
2013-11-18 21:54:41
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