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零影贝

新虫 (初入文坛)

[交流] 紫外扫基线遇到的问题 已有6人参与

做紫外(UV1900)时用有机溶剂做背景扫基线时400nm以前出现很多杂峰,换成水时没有这个问题,用的是四通比色皿(石英),请教各位解答是什么原因?该怎么解决?
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匿名

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木虫


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
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13楼2013-10-04 10:58:18
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songyuze0319

金虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
是190-400吗?那很可能是你的有机溶剂在这个范围有强吸收,而水几乎无吸收,所以。。。
3楼2013-10-02 18:42:19
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零影贝

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by songyuze0319 at 2013-10-02 18:42:19
是190-400吗?那很可能是你的有机溶剂在这个范围有强吸收,而水几乎无吸收,所以。。。

是在190-400nm范围内出现。我的反应体系是有机溶剂做溶剂,得到的物质吸收峰也在400以内,这种情况该怎么解决呢?
4楼2013-10-02 18:54:50
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零影贝

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by Gordon_2010 at 2013-10-02 18:35:49
影响吗?

有影响,要测的物质峰也在400以内,
5楼2013-10-02 18:55:29
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