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liudong093金虫 (小有名气)
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铝箔表面镀膜做SEM对样品的要求？
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铝箔表面镀膜做SEM对样品的要求？ 铝箔很薄，表面镀光学膜，制得样品不平整进行SEM测试，表面，截面，及能谱可以吗？若不能应如何处理？ |
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hwweven
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5楼2013-09-29 18:07:55
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【答案】应助回帖
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liudong093: 金币+3 2013-10-02 21:20:52
liudong093: 金币+3 2013-10-02 21:20:52
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http://www.jeol.cn/?p=2188 对于非导电性样品，为使具有导电性，需要在样品表面包覆一层很薄的金属膜，称为镀膜，一般采用离子溅射、真空蒸发等方法。 离子溅射分为两种：在10Pa左右的真空中利用辉光放电溅射金属靶材的二极溅射和用离子束溅射金属靶材的离子束溅射，通常使用的是二极溅射，图46是利用前种方法的离子溅射镀膜装置示意图，由于是在低真空中，被溅射出来的金属原子与残余气体分子碰撞而四下散射并附着在样品表面，因此能够形成厚度比较均匀的薄膜。在离子束溅射装置中，靶和样品被置于高真空中，因而可以形成高质量的薄膜。 真空蒸发是在真空中将材料加热使之蒸发，在样品表面形成一层薄的金属膜。由于是在10-3Pa 左右的高真空进行蒸发，残余气体分子数量少，导致蒸发的物质粒子散射较弱，不能从各个方向在样品表面镀覆蒸发材料，为了在样品表面形成均匀的薄膜，需要旋转、倾斜样品。 为使二次电子产额率高且稳定，镀膜材料使用Au、Au-Pd、Pt、Pt-Pd等贵金属。高倍率下的观察使用Au-Pd、Pt或Pt-Pd，根据不同的目的如元素分析等，有时也使用C、Al等。在真空中蒸发Pt和Pt-Pd的难度大，溅射C和Al很困难。 镀膜较厚的话，会掩盖样品表面的精细结构，所以薄膜尽量以薄为好，但如果镀层太薄，形成的薄膜不连续会引起荷电积累，因此一般镀膜厚度在几nm～10nm左右。 |
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