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yhailing

银虫 (正式写手)

[求助] 溶胶凝胶法制成多孔SiO2后脱羟基

使用溶胶凝胶法制备了多孔二氧化硅薄膜,但是性能分析推测薄膜中残留羟基,不知道什么办法可以去除羟基。PS:有人说浓硫酸,还没有试过。
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jiagle

专家顾问 (知名作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
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yhailing: 金币+5 2013-07-08 17:19:51
加热脱羟基。
浓硫酸脱羟基的话浓硫酸如何除?
3楼2013-07-08 17:10:27
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yhailing

银虫 (正式写手)

有经验的帮个忙,十分感谢。
2楼2013-07-08 17:05:53
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yhailing

银虫 (正式写手)

引用回帖:
3楼: Originally posted by jiagle at 2013-07-08 17:10:27
加热脱羟基。
浓硫酸脱羟基的话浓硫酸如何除?

还没有试过浓硫酸,有别人做的最后一步反应时浓硫酸浸泡后清洗去除浓硫酸。           
加热的话,我们提拉胶体完成后接下来最后就是退火成SiO2晶体。这过程应该属于加热,所以加热应该没有很大作用吧。
4楼2013-07-08 17:19:30
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jiagle

专家顾问 (知名作家)

【答案】应助回帖

引用回帖:
4楼: Originally posted by yhailing at 2013-07-08 17:19:30
还没有试过浓硫酸,有别人做的最后一步反应时浓硫酸浸泡后清洗去除浓硫酸。           
加热的话,我们提拉胶体完成后接下来最后就是退火成SiO2晶体。这过程应该属于加热,所以加热应该没有很大作用吧。...

清洗除浓硫酸?如何清洗?用什么清洗?不带OH的东西能洗得掉浓硫酸?又如何保证能洗净硫酸?
如果后续要加热的话,前一步脱OH岂不多余?再者,在问题中你也没提及有后续退火过程。
5楼2013-07-09 07:32:02
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