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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 生物材料 » 高分子生物材料 » 真空紫外光刻光源与基材之间距离与刻蚀效果之间影响关系
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李小白哈哈

金虫 (正式写手)

高中

[求助] 真空紫外光刻光源与基材之间距离与刻蚀效果之间影响关系

如题，真空紫外光刻的光源 与 被刻蚀基材 的刻蚀效果 与他们之间的距离有无关系？呈怎么样的关系？
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1楼 2013-07-02 16:18:09
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李小白哈哈

金虫 (正式写手)

高中
引用回帖:
7楼: Originally posted by 红舟流星 at 2013-10-14 00:15:41
不是太清楚“刻蚀基材 的刻蚀效果”，但是想必刻蚀效果与接受光的能量（光子数量）有关，这点和光引发剂相同。...

就是被紫外光刻蚀的深度，和距离有没有关系
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8楼2013-10-14 11:23:50
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红舟流星

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【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
光强和距离平方反比
你可以参考光强与刻蚀效果的关系
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红楼一梦终难寻扁舟载酒且慢行落花流水依惜别月伴明星照前路
2楼2013-07-03 00:29:12
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李小白哈哈

金虫 (正式写手)

高中
引用回帖:
2楼: Originally posted by 红舟流星 at 2013-07-03 00:29:12
光强和距离平方反比
你可以参考光强与刻蚀效果的关系

麻烦你详细的说一下，或者有什么参考资料给我看一看，谢谢你
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3楼2013-07-03 10:31:05
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红舟流星

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【答案】应助回帖

引用回帖:
3楼: Originally posted by 李小白哈哈 at 2013-07-03 10:31:05
麻烦你详细的说一下，或者有什么参考资料给我看一看，谢谢你...

对于距离直接影响光强，你可以搜索一下做光引发剂文章，里面应该有这样的介绍。
现在不在实验室，没有参考资料。
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红楼一梦终难寻扁舟载酒且慢行落花流水依惜别月伴明星照前路
4楼2013-07-03 11:51:53
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