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真空紫外光刻光源与基材之间距离与刻蚀效果之间影响关系
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李小白哈哈
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真空紫外光刻光源与基材之间距离与刻蚀效果之间影响关系
如题,真空紫外光刻的光源 与 被刻蚀基材 的刻蚀效果 与他们之间的距离有无关系?呈怎么样的关系?
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1楼
2013-07-02 16:18:09
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2楼
:
Originally posted by
红舟流星
at 2013-07-03 00:29:12
光强和距离平方反比
你可以参考光强与刻蚀效果的关系
麻烦你详细的说一下,或者有什么参考资料给我看一看,谢谢你
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3楼
2013-07-03 10:31:05
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光强和距离平方反比
你可以参考光强与刻蚀效果的关系
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红楼一梦终难寻扁舟载酒且慢行落花流水依惜别月伴明星照前路
2楼
2013-07-03 00:29:12
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3楼
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Originally posted by
李小白哈哈
at 2013-07-03 10:31:05
麻烦你详细的说一下,或者有什么参考资料给我看一看,谢谢你...
对于距离直接影响光强,你可以搜索一下做光引发剂文章,里面应该有这样的介绍。
现在不在实验室,没有参考资料。
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红楼一梦终难寻扁舟载酒且慢行落花流水依惜别月伴明星照前路
4楼
2013-07-03 11:51:53
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4楼
:
Originally posted by
红舟流星
at 2013-07-03 11:51:53
对于距离直接影响光强,你可以搜索一下做光引发剂文章,里面应该有这样的介绍。
现在不在实验室,没有参考资料。...
我查看了一些光引发剂的文章,但是我不是做光引发的,我是在真空条件下刻蚀材料来对其表面改性的,不用光引发剂的,你能把你的意思再说明白一点吗?我还是不明白你的意思,找不到你说的文章
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5楼
2013-10-13 20:08:48
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