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求教一个磁控溅射的问题 相同的靶材溅射出的膜质量却不一样!已有1人参与
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一直用磁控溅射在石英玻璃上镀铬-金膜做为导电层,一般功率为200w ,工作电流430MA,电压450v。 在老金靶用完之后,我更换一个了金靶,功率不变,工作电流变为410MA,电压480v,其它参数没任何变化,但是膜层的质量严重下降,镀膜后石英器件的振动品质因数也下降的很明显。 我只更换了金靶,没更改任何参数设置,为何造成这么大的变化啊。 金靶应该是没有问题的,之前用别的磁控溅射设备镀膜没有任何问题。 [ Last edited by cheadache on 2013-6-28 at 19:05 ] |
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12楼2013-11-19 21:09:08
mzhuxust
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2楼2013-06-29 00:21:52
cheadache
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3楼2013-06-29 08:22:30
4楼2013-06-29 15:51:35













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