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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 量子点包裹SiO2中APS修饰的过程
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林夕尹口

金虫 (小有名气)

[求助] 量子点包裹SiO2中APS修饰的过程

请教各位高手
在CdSe面包包裹SiO2的过程中，需要用APS修饰
通常文献都提到“Twenty microliters of 0.1 M APS in 1 mL of cyclohexane was added to 2 mg CdSe/ZnS, and the solution was stirred until it became clear.”

不太明白这溶液到底要怎么加，是配置1ml的0.1M 的APS溶液，然后加20 ul到QD中，还是20 ul的0.1M APS溶液加入1 ml c-hexane 再加入QD中呢。

请指教
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1楼 2013-06-20 13:58:09
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zihua886

铁杆木虫 (正式写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by zihua886 at 2013-07-10 08:55:59
我倒是觉得0.1M应该是0.1mol，什么文献啊！很显然的低级错误。

又或者是先配0.1M的APS，然后取20微升加到1毫升的环己烷里，再把这混合溶液加到QDs里
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工作原因，暂离数月。
5楼2013-07-10 08:58:23
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呐谁在作祟

金虫 (小有名气)
在2 mg CdSe /ZnS 中加入20 uL 0． 1 mol /L APS /环己烷溶液，搅拌直到混合溶液变清。
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环境监测（水务环保）--GC、HPLC、ICP等分析仪器
2楼2013-07-05 10:42:21
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林夕尹口

金虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 呐谁在作祟 at 2013-07-05 10:42:21
在2 mg CdSe /ZnS 中加入20 uL 0． 1 mol /L APS /环己烷溶液，搅拌直到混合溶液变清。

谢谢。。。那那个1ml是干嘛的
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3楼2013-07-10 08:22:35
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zihua886

铁杆木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

我倒是觉得0.1M应该是0.1mol，什么文献啊！很显然的低级错误。
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工作原因，暂离数月。
4楼2013-07-10 08:55:59
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