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稀土氧化物薄膜英文专著 Rare Earth Oxide Thin Films
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Rare Earth Oxide Thin Films-Growth, Characterization, and Applications Contents 1. Scientific and Technological Issues Related to Rare Earth Oxides: An Introduction 2. Atomic Layer Deposition of Rare Earth Oxides 3. MOCVD Growth of Rare Earth Oxides:The Case of the Praseodymium/Oxygen System 4 .Requirements of Precursors for MOCVD and ALD of Rare Earth Oxides 5 .Models for ALD and MOCVD Growth of Rare Earth Oxides 6. Growth of Oxides with Complex Stoichiometry by the ALD Technique, Exemplified by Growth of La1−xCaxMnO3 7. Molecular Beam Epitaxy of Rare-Earth Oxides 8. Fabrication and Characterization of Rare Earth Scandate Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition 9. Film and Interface Layer Composition of Rare Earth (Lu,Yb) Oxides Deposited by ALD 10. Experimental Determination of the Band Offset of Rare Earth Oxides on Various Semiconductors 11. Band Edge Electronic Structure of Transition Metal/Rare Earth Oxide Dielectrics 12. Electronic Structure of Rare Earth Oxides 13. Rare Earth Oxides in Microelectronics 14. Requirements of Oxides as Gate Dielectrics for CMOS Devices 15. Rare Earth Oxides Grown by Molecular Beam Epitaxy for Ultimate Scaling 16. The Magneto-Electric Properties of RMnO3 Compounds 17. Sesquioxides as Host Materials for Rare-Earth-Doped Bulk Lasers and Active Waveguides[ Last edited by MooN_Jyle on 2013-6-7 at 16:46 ] |
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