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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 关于FTO基片上Fe2O3纳米线的光电流问题
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橙汁泡饭

金虫 (小有名气)

[求助] 关于FTO基片上Fe2O3纳米线的光电流问题

小虫是用水热法在FTO基片上长的Fe2O3的纳米线（500度烧结的），现在通过电化学工作站测量所做基片的光电流和暗电流，并通过Origin作图发现，光电流和暗电流区别不大，现在向各位虫友求救，是不是哪个步骤出问题了？
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超越自己
1楼 2013-05-19 14:16:47
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xiejf

专家顾问 (文学泰斗)

麦麦爸爸爱小牛

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
124685887: 金币+2, 专家考核, 谢谢指导 2013-05-19 15:32:31
有可能是长得太厚了，电子传导会有问题，三氧化二铁中电子传输距离很短的。
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麦麦爸爸爱小牛
2楼2013-05-19 14:34:34
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xiejf

专家顾问 (文学泰斗)

麦麦爸爸爱小牛

【答案】应助回帖

★ ★ ★
橙汁泡饭: 金币+3, ★★★很有帮助 2013-05-20 11:15:04
忘记说了，500度对于三氧化二铁可能低了点，与基底的接触未必好
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麦麦爸爸爱小牛
3楼2013-05-19 14:36:23
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yuan999

专家顾问 (知名作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
橙汁泡饭: 金币+2, ★有帮助 2013-05-21 00:43:18
橙汁泡饭(124685887代发): 金币+1, 专家考核, 谢谢指导 2013-06-01 10:48:43
影响因素很多啊，材料形貌，结晶性，与FTO接触性，看看相关文献。
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我~心~依~旧
5楼2013-05-20 15:40:40
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匿名

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橙汁泡饭
9楼2013-05-21 19:28:39
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匿名

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17楼2013-05-24 20:39:08
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橙汁泡饭

金虫 (小有名气)
引用回帖:
23楼: Originally posted by silence11 at 2014-07-05 21:13:24
你好 ！ 我也遇到同样的问题 做了许多氧化铁，看许多文献都在说要800 摄氏度退火，但是仅有4~20 min 。可是玻璃超过700 摄氏度就会烧化。
我做过升温1h到750摄氏度，再保温10 min，虽然光电流有增加 但是 和文献比 ...

如果说你只做Fe2O3的话，先在550煅烧2h，以最大升温速率升到800度，退火10-15min，等自动降温。关于是否800度开马弗炉，我第一次也是退火之后直接取出，但是这样对基片和炉子都有伤害，所以还是等自动降为室温较好。
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超越自己
25楼2014-07-10 16:26:46
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普通回帖

橙汁泡饭

金虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by xiejf at 2013-05-19 14:36:23
忘记说了，500度对于三氧化二铁可能低了点，与基底的接触未必好

温度是低了一点，现在我改为700度了，今天又测了一遍光电流，有所改变，至于厚度，我是用水热做的，应该不会很厚，要不要去拍个SEM？
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超越自己
4楼2013-05-20 11:16:53
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橙汁泡饭

金虫 (小有名气)
引用回帖:
5楼: Originally posted by yuan999 at 2013-05-20 15:40:40
影响因素很多啊，材料形貌，结晶性，与FTO接触性，看看相关文献。

我是根据附件上的方法做的，但是做出来的片子的光电流测试跟文献中的相差很大很大，而且光电流和暗电流区别简直很小，不明白哪里出错了，求大神帮助啊
关于FTO基片上Fe2O3纳米线的光电流问题
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关于FTO基片上Fe2O3纳米线的光电流问题-1
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超越自己
6楼2013-05-20 17:29:59
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常四爷

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

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自己摸吧，不是这么简单的
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7楼2013-05-20 21:44:47
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xiejf

专家顾问 (文学泰斗)

麦麦爸爸爱小牛

【答案】应助回帖

引用回帖:
4楼: Originally posted by 橙汁泡饭 at 2013-05-20 11:16:53
温度是低了一点，现在我改为700度了，今天又测了一遍光电流，有所改变，至于厚度，我是用水热做的，应该不会很厚，要不要去拍个SEM？...

截面的扫描必然要拍的
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麦麦爸爸爱小牛
8楼2013-05-21 13:23:57
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橙汁泡饭

金虫 (小有名气)
送红花一朵
引用回帖:
9楼: Originally posted by hanyu13105 at 2013-05-21 19:28:39
注意加热时间，水热合成氧化铁一般要加热到750度以上才会有明显的光电响应，最好在800度加热5-10分钟左右，时间太长，基底的电阻会增加很大。按照文献中生长出的氧化铁不会太厚的。

之前我用500度烧的，现在用700度烧，你的建议是在750度或以上烧，我担心FTO基片耐不了高温，上次我在800度烧了10分钟左右，基片就变形了，你的意思是现在750度烧2小时，取出冷却到室温，再在800都烧5~10分钟？
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超越自己
10楼2013-05-22 10:08:21
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