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关于FTO基片上Fe2O3纳米线的光电流问题
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关于FTO基片上Fe2O3纳米线的光电流问题
小虫是用水热法在FTO基片上长的Fe2O3的纳米线(500度烧结的),现在通过电化学工作站测量所做基片的光电流和暗电流,并通过Origin作图发现,光电流和暗电流区别不大,现在向各位虫友求救,是不是哪个步骤出问题了?
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23楼
:
Originally posted by
silence11
at 2014-07-05 21:13:24
你好 ! 我也遇到同样的问题 做了许多氧化铁,看许多文献都在说要800 摄氏度退火,但是仅有4~20 min 。可是玻璃超过700 摄氏度就会烧化。
我做过升温1h到750摄氏度,再保温10 min,虽然光电流有增加 但是 和文献比 ...
如果说你只做Fe2O3的话,先在550煅烧2h,以最大升温速率升到800度,退火10-15min,等自动降温。关于是否800度开马弗炉,我第一次也是退火之后直接取出,但是这样对基片和炉子都有伤害,所以还是等自动降为室温较好。
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2014-07-10 16:26:46
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2013-05-19 15:32:31
有可能是长得太厚了,电子传导会有问题,三氧化二铁中电子传输距离很短的。
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2013-05-19 14:34:34
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很有帮助
2013-05-20 11:15:04
忘记说了,500度对于三氧化二铁可能低了点,与基底的接触未必好
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2013-05-19 14:36:23
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3楼
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Originally posted by
xiejf
at 2013-05-19 14:36:23
忘记说了,500度对于三氧化二铁可能低了点,与基底的接触未必好
温度是低了一点,现在我改为700度了,今天又测了一遍光电流,有所改变,至于厚度,我是用水热做的,应该不会很厚,要不要去拍个SEM?
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4楼
2013-05-20 11:16:53
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