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汉代长影

新虫 (初入文坛)

[求助] 稀土铕掺杂多孔二氧化硅薄膜

我制备的铕掺杂多孔二氧化硅薄膜,需要很高的波长(499nm)的光去激发才能出现580-590nm、610-620nm、700nm这样三个特征峰,我想知道这样做合不合理,这样的数据可用吗,如果不合理,仪器参数要调一下还是薄膜制备方法需要改进呢
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汉代长影

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 鹰羽龙 at 2013-05-09 14:36:47
楼主是想做上转换吗?

对的,在薄膜中体现这种作用,不过掺铕是下转换作用
3楼2013-05-09 20:32:57
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鹰羽龙

木虫 (著名写手)

楼主是想做上转换吗?
2楼2013-05-09 14:36:47
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汉代长影

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 鹰羽龙 at 2013-05-09 14:36:47
楼主是想做上转换吗?

如果有什么好的意见拜托了
4楼2013-05-09 20:34:03
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鹰羽龙

木虫 (著名写手)

我不懂,随便问问的
5楼2013-05-10 10:15:34
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