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marrylet2011

银虫 (正式写手)

[求助] 制备光子晶体用模板的选择问题

本人想做50nm左右,100nm左右,200nm左右和250nm左右的光子晶体用模板,请问PS和SiO2哪一个更好?由于初涉此领域,很多问题不懂,还望有经验的朋友不吝赐教!

[ Last edited by kunpeng1782 on 2013-5-7 at 21:47 ]
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If you want to be loved, be lovable.
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蒋青松

荣誉版主 (著名写手)

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这个文献很多,你自己在google学术里收索就有很多!呵呵呵
2楼2013-05-06 20:04:30
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marrylet2011

银虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 蒋青松 at 2013-05-06 20:04:30
这个文献很多,你自己在google学术里收索就有很多!呵呵呵

谢谢您的建议,很抱歉未及时回复。
If you want to be loved, be lovable.
3楼2013-05-08 19:25:05
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z361037950

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by marrylet2011 at 2013-05-08 19:25:05
谢谢您的建议,很抱歉未及时回复。...

既然是模板 你就要考虑 做完之后如何去掉,PS在高温500摄氏度可去除。你的样品能承受500摄氏度么?
sio2 需要用HF去除, 你的样品抗酸性如何?
用什么模板完全取决于你用什么材料
4楼2013-07-04 15:02:19
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