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肖特基接触的反向电流有毛刺
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小木虫的虫友大家好，我在p 型硅片表面用直流溅射或射频溅射镀直径为0.5mm的Ni金属，硅片的另一面用直流溅射镀一层Al金属薄膜，用安捷伦HP 4155C半导体参数分析仪测试其肖特基接触的电流电压曲线，测试后发现反向饱和电流的大小不是单调变化，在origin 8软件中做成半对数曲线，反向饱和电流曲线有毛刺，求牛人应该怎么解决这个问题，让I-V特性曲线变得光滑一些，不要再出现毛刺。 |
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