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肖特基接触的反向电流有毛刺
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小木虫的虫友大家好,我在p 型硅片表面用直流溅射或射频溅射镀直径为0.5mm的Ni金属,硅片的另一面用直流溅射镀一层Al金属薄膜,用安捷伦HP 4155C半导体参数分析仪测试其肖特基接触的电流电压曲线,测试后发现反向饱和电流的大小不是单调变化,在origin 8软件中做成半对数曲线,反向饱和电流曲线有毛刺,求牛人应该怎么解决这个问题,让I-V特性曲线变得光滑一些,不要再出现毛刺。 |
2楼2013-06-06 18:20:06













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