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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 请教一个磁控溅射制备薄膜的问题，用相同功率的直流和射频溅射金属靶效果有什么不同？
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钦点木瓜

金虫 (著名写手)
★
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直流的能量比较大，射频的能量比较小，在同一功率下。
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用绳命来搞科研
11楼2013-05-14 20:27:24
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huihuidl

新虫 (初入文坛)
★
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射频镀的膜较为均匀
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12楼2013-06-25 14:47:45
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swxby

木虫 (著名写手)
★
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对，肯定射频比ZnO低，但是仪器不同，无法精确给出。
ZnO是氧化物不考虑腔室的电势分布，射频长的比较慢，你做掺杂肯定推荐射频了。
你应该用的三靶共溅或者其他共溅系统吧，其他金属可以使用直流，因为需要的少。
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喵了个咪的~
13楼2013-12-05 15:50:11
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916941518

银虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
直流较射频沉积速率快，这就造成所镀薄膜表面粗糙度不同，进而影响薄膜晶格结构
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14楼2014-07-06 17:30:07
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