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wangdanyu

新虫 (正式写手)

[求助] 氧化亚铜 光电压响应曲线图

我想问一下我的光响应曲线怎么都是这种啊?和文献上面的从零开始的也一样,而且还没有平台出现,而且每次出的图都是不一样的!

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曾世碧

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

(1) 一般而言, 氧化亚铜在暗情况下,开路电位不为零,主要受你制备材料表面形貌的影响。电位基线可能会发生小幅度的变化,但是变化量应该没有加光的变化量大。(2)氧化亚铜本身不是很稳定,尤其是模板法做的氧化亚铜薄膜比较薄,在光照条件下可能会发生变化,从而影响光电压。(3)大致可以知道你制备的氧化亚铜是p型的,因为光电压向上。(4)制备的氧化亚铜太薄了(多半长的不是很好),导致加光情况下光电压变化不明显,被小的电压起伏给影响了,所以显得图像很怪异。(5)建议用好的电化学工作站,如2273,这样测得线也会比较完美。以前我们用国产的电化学工作站测试,数据有很大的噪音,后来用2273测试,即使是同样的样品,测试曲线都很平整。
12楼2013-04-24 14:34:31
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emilyjuan

铁虫 (初入文坛)

我不清楚你用的什么方法制备的氧化亚铜,这应该是多种因素造成的吧,与你的氧化亚铜也有关。
2楼2013-04-20 14:31:22
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wangdanyu

新虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by emilyjuan at 2013-04-20 14:31:22
我不清楚你用的什么方法制备的氧化亚铜,这应该是多种因素造成的吧,与你的氧化亚铜也有关。

我用电沉积方法做的啊!那也不应该这样吧,同一片氧化亚铜出来的响应都是不一样的!
3楼2013-04-21 19:59:20
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emilyjuan

铁虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by wangdanyu at 2013-04-21 19:59:20
我用电沉积方法做的啊!那也不应该这样吧,同一片氧化亚铜出来的响应都是不一样的!...

那你有没有考虑过光照强度,氧化亚铜薄膜的厚度和你所沉积的氧化亚铜n,p型等因素对它的影响?
4楼2013-04-23 19:45:08
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