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wangdanyu

新虫 (正式写手)

[求助] 氧化亚铜 光电压响应曲线图

我想问一下我的光响应曲线怎么都是这种啊?和文献上面的从零开始的也一样,而且还没有平台出现,而且每次出的图都是不一样的!

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wangdanyu

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2楼: Originally posted by emilyjuan at 2013-04-20 14:31:22
我不清楚你用的什么方法制备的氧化亚铜,这应该是多种因素造成的吧,与你的氧化亚铜也有关。

我用电沉积方法做的啊!那也不应该这样吧,同一片氧化亚铜出来的响应都是不一样的!
3楼2013-04-21 19:59:20
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wangdanyu

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4楼: Originally posted by emilyjuan at 2013-04-23 19:45:08
那你有没有考虑过光照强度,氧化亚铜薄膜的厚度和你所沉积的氧化亚铜n,p型等因素对它的影响?...

光照的话都是一样的强度,但是每次出的开路电压数值都不一样,一样的样品啊!每次出的在暗光下电压也不是零啊!不知道怎么回事
5楼2013-04-23 21:32:32
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wangdanyu

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7楼: Originally posted by smilee1988 at 2013-04-23 22:31:38
你好,我想问一下 ,你是用模板法制备氧化亚铜的么。。。

是啊!
8楼2013-04-24 10:38:57
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6楼: Originally posted by mlanqiang at 2013-04-23 21:55:13
制备氧化亚铜的方法到底是哪种??

模板法电沉积!
9楼2013-04-24 10:39:53
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wangdanyu

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10楼: Originally posted by smilee1988 at 2013-04-24 10:46:27
想问一下,测试光电压时候,是用三电极,工作电压是AAO,支持电解液是什么啊,然后怎么实现光照的,是用紫外光照射电解液么,因为没有做过这个,想请教一下...

也可以用两电极的,电解液文献上面有很多种,不一定是固定的,我用的硫酸钠。
14楼2013-04-24 19:44:56
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11楼: Originally posted by 曾世碧 at 2013-04-24 14:29:24
(1) 一般而言, 氧化亚铜在暗情况下,开路电位不为零,主要受你制备材料表面形貌的影响。电位基线可能会发生小幅度的变化,但是变化量应该没有加光的变化量大。(2)氧化亚铜本身不是很稳定,尤其是模板法做的氧化 ...

我现在产生的光电压是负的,在光照的瞬间又突然趋近于零了,这能说明什么问题吗?
15楼2013-04-24 19:49:49
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11楼: Originally posted by 曾世碧 at 2013-04-24 14:29:24
(1) 一般而言, 氧化亚铜在暗情况下,开路电位不为零,主要受你制备材料表面形貌的影响。电位基线可能会发生小幅度的变化,但是变化量应该没有加光的变化量大。(2)氧化亚铜本身不是很稳定,尤其是模板法做的氧化 ...

还有就是我用的是两电极体系,会是因为这个的原因吗?应该没问题吧?
16楼2013-04-24 19:52:55
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17楼: Originally posted by smilee1988 at 2013-04-24 20:43:53
谢谢啊,那照射的时候,是直接用紫外光照射电解液么...

你是做光响应曲线吗?我看的文献用什么都可以的,紫外可见都行,可见比较多
18楼2013-04-25 08:53:16
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wangdanyu

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19楼: Originally posted by smilee1988 at 2013-04-25 14:38:45
我还没做呢,想尝试一下。。。是用光源直接照射电解液是吧,模板是沉积结束后,不做任何处理,当做工作电极,然后接在电路中,在容器里倒入支持电解液。。。是具体这样操作的么...

模版要去掉啊!
20楼2013-04-25 14:51:57
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