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CHI工作站上如何实现current pulse技术呢
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各位电化学大侠： 请问CHI工作站上如何实现current pulse技术呢？ 文献是这样的：an external bias （0.2 V vs Ag/AgCl.）was applied in the form of current pulses alternating between 10 μ A/cm2 for 3 s (deposition pulse) and 1 μ A/cm2 for 2 s (resting pulse). 工作站有几个相关技术可以选：多电位阶跃，多电流阶跃，差分脉冲电流法。 current pulses 到底是要控制恒电位还是恒电压呀？ |
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 电化学电容器 |
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