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CHI工作站上如何实现current pulse技术呢
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各位电化学大侠: 请问CHI工作站上如何实现current pulse技术呢? 文献是这样的:an external bias (0.2 V vs Ag/AgCl.)was applied in the form of current pulses alternating between 10 μ A/cm2 for 3 s (deposition pulse) and 1 μ A/cm2 for 2 s (resting pulse). 工作站有几个相关技术可以选:多电位阶跃,多电流阶跃,差分脉冲电流法。 current pulses 到底是要控制恒电位还是恒电压呀? |
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