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[交流]
请教一个晶胞参数的问题
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NiS2，CuS等过渡金属硫化物经常以非化学计量比化合物出现，比如NiS1.98，NiS1.96等，当S的含量发生微小变化的时候晶胞参数是如何变化的？如何来精确的测量变化趋势以及最大的变化范围？ 如果能够提供相关文献的奖励1～10个金币。谢谢 |
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2楼2007-09-14 19:23:01
dielectric
铁杆木虫 (正式写手)
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3040821025(金币+1,VIP+0):谢谢提供。
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你这个问题比较常见，一些较好的XRD都可以做，就看你那个晶胞参数变化能有多大了。 常用的是德国STOE的装有PSD(position sensitive dector)的XRD，同时用标准Si粉作内标。 STOE本身有Winxpow软件，峰的标定以及晶格常数计算都可以非常容易的做。 如果用Si粉作内标，至少晶格常数小数点后第三位的变化可以精确测。我自己的样品晶格常数变化发生在小数点第四位，这时还可以看到变化。 至于文献，可以说相关文章不少，特别是对某个材料进行改性掺杂时，经常需要计算不同掺杂量时的晶格常数变化。 总之技术并不难，关键是有台好XRD |
3楼2007-09-15 02:09:54