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dearsodium铁杆木虫 (小有名气)
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[求助]
射频磁控溅射后为什么靶材表面有黑膜和彩色光圈 已有1人参与
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最近磁控溅射设备有点问题，射频溅射后，靶材表面有明显的黑灰，或者是呈现出彩色光环（如图分别为PbSe、CdZnTe、Cu靶），并且辉光颜色也从以前的紫红色变成了明显的粉红色（气体为Ar气），想请教下各位专业人士，这是怎么回事？感谢各位帮忙，大量金币奉送，如能详细解惑，定当重谢，先在此感谢啦~！ IMG_20130407_195546.jpg  IMG_20130407_195644.jpg  IMG_20130407_195657.jpg  IMG_20130407_195821.jpg |
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dearsodium
铁杆木虫 (小有名气)
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- 虫号: 1157721
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- 性别: GG
- 专业: 半导体材料
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感谢之前的各位朋友的回答，针对大家说的漏气问题我再补充几点，因为最近的实验都是采用的之前的成熟工艺条件在做，分子泵启动后本底真空大概一个半小时到两个小时就能下到9.8*10-4以下，虽然比以前慢，但是慢得并不多，包括之后流量计控进气，高阀控出气的位置，以及溅射时氩气气压的控制，都和以前没有区别，总的说来，抽真空和控气压过程没有明显感觉到有大量漏气的情况，另外氩气已经试用了两瓶了，依然是如题现象，想进一步问一下，如果是漏气的话，是否是漏一点点就会有这么明显的影响。 此外，因为磁控溅射放靶的位置，因为长期使用外加保养不善，稍微有一点鼓起，靶放在上面稍微有一点不平感，请问这是否也会造成影响呢，谢谢大家啦。 |
17楼2013-04-08 10:58:41
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2楼2013-04-07 20:53:45
3楼2013-04-07 21:06:24
漏气了，和我之前一样，仔细检查吧，找漏点不容易啊 4楼2013-04-07 21:15:56