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探讨“VASP模拟带电离子在金属及金属氧化物表面的吸附”
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看了很多帖子并调研了一定数量的文献,事实上模拟的吸附质大都是原子(H、O、He...)或中性分子(H2、O2、CO、H2O...),很少考虑对应的带电离子(单个原子或者多原子),敢问各位虫友有什么观点和想法?本人新手,只求能参与大伙儿的讨论并从中学习,同时给予有同样疑问的同学以启发和帮助![]() |
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vasp说明书上有介绍, 大概的意思是,要求计算的cube的 长 宽 高 严格相等, 计算完之后修正,因为限制比较多,因此一般上说来,不能算slab体系。但如果碰到抬扛的人,比如这里 http://muchong.com/bbs/viewthread.php?tid=5347282&authorid=285070 好吧,我承认,在保证长=宽=高的情况下是可以计算的,记得最后修正。不过,我还是坚持,对于一般slab体系,长宽恰好相等的体系是比较少的,所以,大部分情况下不能算。 前面有(大概是2009~2011年左右,不太准确)有几篇文献是算的这个,不过它们的计算是错的,vasp作者发现后特别在新版的说明书里面提到(参见最新版说明书),要特别注意。 |
2楼2013-03-22 17:08:11















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