| 查看: 1279 | 回复: 2 | ||
[求助]
求助:表面胺基硅烷化修饰
|
| 大家好,我想将三已氧基胺基硅烷(APTES)修饰到颗粒表面,反应条件是在2%APTES的干燥甲苯中室温搅拌。看文献说在甲苯中回流的,之前试过50度反应过夜,发现好多自聚合的SiO2小球粘在我的颗粒表面,所以就用室温反应。最奇怪的是,我的颗粒原来的zeta电位是-13左右,修饰完之后竟然变成-30多,SEM电镜发现形态没太大变化,EDX发现修饰完之后只有微弱的Si元素的分布。请问这是什么原因呢?大家有没有硅烷修饰的比较好的经验跟方法呢?万分感谢啊! |
yucongjun
银虫 (初入文坛)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 360.9
- 散金: 7
- 帖子: 26
- 在线: 75.4小时
- 虫号: 1090973
- 注册: 2010-09-06
- 性别: GG
- 专业: 有机合成

2楼2013-04-02 10:49:50
3楼2013-11-18 17:55:21













回复此楼