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求助:表面胺基硅烷化修饰
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| 大家好,我想将三已氧基胺基硅烷(APTES)修饰到颗粒表面,反应条件是在2%APTES的干燥甲苯中室温搅拌。看文献说在甲苯中回流的,之前试过50度反应过夜,发现好多自聚合的SiO2小球粘在我的颗粒表面,所以就用室温反应。最奇怪的是,我的颗粒原来的zeta电位是-13左右,修饰完之后竟然变成-30多,SEM电镜发现形态没太大变化,EDX发现修饰完之后只有微弱的Si元素的分布。请问这是什么原因呢?大家有没有硅烷修饰的比较好的经验跟方法呢?万分感谢啊! |
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APTES修饰 | SiO2氨基修饰 |
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yucongjun
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