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jzsunjia金虫 (正式写手)
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怎么用SRIM 2006画下面这张图
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图示说明: 用相同能量,但不同剂量的入射离子注入至靶材中。 SRIM怎么设置参数啊,设置哪个参数啊????? 用SRIM 2006 怎么画啊?用和其他软件连用吗(比如作图软件)? 求高手指教!!! Different flunence with same ions energy .jpg |
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【答案】应助回帖
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jzsunjia: 金币+8, ★★★很有帮助, 前辈说的我大部分能明白,我再试试哦 2013-03-16 11:14:29
蒋青松: 金币+1, 鼓励交流 2013-03-17 22:08:01
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SRIM中只需要设置入射能量(必要的话可以设置入射角度),靶的材料。然后已经求出必要的数据来了,1E15,注意后面的单位,ions/cm2,我不知道找的是谁的模拟结果,但是我觉得,这个结果应该是,错误的。因为从单位上来看,这个是很难理解的。因为横坐标是一个单位,但是纵坐标是ions/cm2。在一定深度的表面剂量,这是很奇怪的,应该是ions/cm3比较正常。如果我没记错,SRIM直接算出来的结果的单位应该是cm2/cm3,这样的话,乘上一个表面剂量,单位就变成了ions/cm3,即空间中一定深度的离子浓度。 SRIM计算的结果都在SRIM Output文件夹中,建议把里边的文件倒出来用Origin作图。这就意味着,要在Origin中做乘上表面剂量的运算。可以下载新的SRIM2013版,里边有简体中文的说明,其中一个掺杂问题的说明就有解决这个问题的办法。 祝好运。 |

4楼2013-03-16 00:58:26
jzsunjia
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3楼2013-03-15 13:36:54
jzsunjia
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5楼2013-03-16 11:27:32
jzsunjia
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你说的这张图,我在SRIM中输出过,但是和文献对比发现不对,我帖子中所发的那张图是一个老外的文献中截取的,他画的就是用这个单位,这篇文献标题为Ion-beam synthesis of 3C-SiC surface layers on silicon(2011,作者T. Hopf et al),如果你下载不到,可以给我发邮件jiaozuosunjia@163.com. 以下是另外一篇文献中的SRIM图形,他用的单位是atom/cm3(文献Formation and characterization of ion beam assisted nanosystems in silicon,2010,P.R. Poudel et al) 你看他画的这张图和你发的图是不是一样,只是乘了个表面剂量1E17和6E16吗???? 那如果是的话,他用的纵坐标的量级怎么变为21次方呢??? 小生愚钝,希望原谅哦。 1.jpg 2.jpg |
8楼2013-03-16 20:12:23












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