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dashan_612

木虫 (正式写手)

[求助] Si片清洗

那位高手知道Si片的标准清洗，我在文献上看到一种叫“RCA process”的清洗过程，有谁知道具体的操作过程么 谢谢
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1楼 2007-08-29 19:53:45
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fuzp

铁杆木虫 (正式写手)
传统的四步法清洗：
(1)在乙醇溶液中超声或煮沸数分钟，除去硅片表面石蜡；
(2)在1：9的HF溶液(4%)中漂洗三秒钟，除去硅片表面的二氧化硅；
(3)在HCl：H2O2：H2O=1：2：7的溶液中煮沸3分钟，除去金属污染物；
(4)在NH4OH：H2O2：H2O=1：2：5的溶液中煮沸三分钟以上，进一步除去金属污染物。
为了保证表面干净，基片应随用随洗。

可能各溶剂比例在不同书上会不一样。有些清洗会先用丙酮，苯等来去除有机物。

RCA过程不记得是什么了。
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2楼2007-08-29 21:04:01
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