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dashan_612

木虫 (正式写手)

[求助] Si片清洗

那位高手知道Si片的标准清洗,我在文献上看到一种叫“RCA process”的清洗过程,有谁知道具体的操作过程么 谢谢

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fuzp

铁杆木虫 (正式写手)

传统的四步法清洗:
(1)在乙醇溶液中超声或煮沸数分钟,除去硅片表面石蜡;
(2)在1:9的HF溶液(4%)中漂洗三秒钟,除去硅片表面的二氧化硅;
(3)在HCl:H2O2:H2O=1:2:7的溶液中煮沸3分钟,除去金属污染物;
(4)在NH4OH:H2O2:H2O=1:2:5的溶液中煮沸三分钟以上,进一步除去金属污染物。
为了保证表面干净,基片应随用随洗。

可能各溶剂比例在不同书上会不一样。有些清洗会先用丙酮,苯等来去除有机物。

RCA过程不记得是什么了。
2楼2007-08-29 21:04:01
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