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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 设计与制备 » 磁控溅射中的双靶共溅射，如何通过调整两个靶材的溅射功率控制掺杂量？
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yellow慧

金虫 (正式写手)
引用回帖:
17楼: Originally posted by 孤傲的王子 at 2013-11-08 09:45:30
楼主的意思是怎么通过调节两个靶的功率得到确定掺杂含量的薄膜，我赶脚这是无法确定的。只能先做几组不同功率的，然后做测试...

你好，我最近也在做双金属共溅射，想请问下这个几组不同功率这么设置比较好呢？是控制两个靶材的功率总和一定，还是保持其中一个功率不变，改变另一个的功率参数？不太会设置实验，请赐教！
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21楼2018-09-16 14:55:48
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