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muxinzi

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[求助] 关于用阳极氧化的方法制备AAO的一些问题

最近要开始用阳极氧化铝的方法制备AAO，看了一些文献，现在有几个问题：
1.几乎所有的文献中对铝箔的处理都要电解抛光，请问这是必须的么？另外好多都是恒流操作，恒电压操作不可以么？是否与电解质有关？
2，关于电解槽，有没有哪位高人有自己设计电解槽的经验，如果有，可以分享一下么？

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1楼2013-02-28 12:04:50

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【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
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qlf_126: 金币+1, 感谢参与！希望多来本版交流！ 2013-02-28 13:05:24
muxinzi: 金币+6, ★★★很有帮助, 回答的问题听起来很有道理 2013-03-03 15:12:20

AAO模版以前了解过，对你的第一个问题提一下我个人的观点：
1.作为阳极氧化铝的制备基体，铝箔必须电解抛光，这一点从其后续成膜的方法就能看出。因为阳极氧化前必须保证氧化的基体面为镜面光滑状，否则将直接导致纳米微孔分布不均及其剥离特性，甚至导致不连续阳极氧化，严重影响成膜的工艺。
2.恒流或者恒压的影响没有深入研究过，但是我认为其在实验室环境下差别可以忽略不计，所以个人觉得采用恒流方式是为了为工厂化应用提供方便，因为工厂的电解槽如果要保证大规模集群生产的顺利进行，必须首先解决电解液的平稳离子交换，那么在大型槽池的内部扰流情况下，恒压无法有效应对，只有稳定的恒流条件才能较好的抗拒这些外在干扰。
3.由于工作后就未接触AAO的问题了，所以第二个问题无能为力了，第一个问题的回答也只代表我个人意见，仅供参考

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2楼2013-02-28 13:03:40

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muxinzi

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谢谢你的回答！那如果所用铝箔很薄的话，如几百纳米，电解抛光时不是不太好？即电解抛光的厚度是多少？前辈所用的电解抛光是恒压情况下的么？

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3楼2013-02-28 14:48:48

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引用回帖:

3楼: Originally posted by muxinzi at 2013-02-28 14:48:48
谢谢你的回答！那如果所用铝箔很薄的话，如几百纳米，电解抛光时不是不太好？即电解抛光的厚度是多少？前辈所用的电解抛光是恒压情况下的么？

据我所知目前工业化生产的铝箔最薄的是双零箔，也就是极限厚度为0.001mm的铝箔了，再薄的没听说过了，对于这种铝箔，阳极氧化前的电解抛光应该还是没有压力的，而且由于其高精密的厚度控制，需要电解抛光的表面处理层极小，而电解抛光也是一个可控过程，适当控制参数，不难实现，不过具体的话，我也不是专业做这个的，不清楚啊！

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4楼2013-02-28 15:54:46

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