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fanyf06

银虫 (小有名气)

[交流] SiO2 用APTES修饰, 然后用于CO2 捕集 已有5人参与

现在有几个问题, 关于SiO2 用APTES 修饰,
现在用的反应步骤中要加入几滴水, 促进水解。
反应溶剂是甲苯。关于溶剂选取, 是否选择其他溶剂呢?

最后改性完了的洗涤, 先用甲苯, 己烷, 最后乙醇,
这个洗涤步骤如何? 怎么确保把物理吸附的APTES 全部去除呢?
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fanyf06

银虫 (小有名气)

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2楼: Originally posted by wejack2006 at 2013-01-29 16:00:55
这个没办法确保APTES全部除去  多洗两次  可能最后含有量就会少

因为有物理吸附的APTES, 最后我们的粉末要加热到100度,那些物理吸附的APTS 就出来了 ,导致氨基浓度降低了。。
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4楼2013-01-30 01:37:17
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fanyf06

银虫 (小有名气)

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3楼: Originally posted by zyb19880825 at 2013-01-29 20:28:02
APTES修饰干嘛加水啊,加水就很难除干净,也可以用其他方法啊:先用无水乙醇清洗 2 次,然后倒入 20ml 无水乙醇,将羟基化硅片转移到烧杯中,用无水乙醇清洗 3 次。使硅片处于乙醇环境中;清洗完成后倒掉乙醇,迅速 ...

加水应该是促进水解的。 因为我们用粉末改性, 不用控制表面接枝是单层的, 只要接上去氨基就可以了。 最后产品中水对我们影响不大, 但是氨基的量要高, 并且要稳定。 所以想把物理吸附的反应物 尽量除干净了
加拿大SAYARI的文章都是加少量的水。
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5楼2013-01-30 01:39:27
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fanyf06

银虫 (小有名气)

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6楼: Originally posted by harmony123 at 2013-01-30 03:15:26
甲苯和水不混溶呀?怎么加水?

如果用甲苯,乙醇超声,然后100度加热,应该能除净了

下次试一下
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7楼2013-01-30 06:09:58
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