24小时热门版块排行榜    

查看: 404  |  回复: 3
当前主题已经存档。

shiningx

荣誉版主 (知名作家)

小木虫模范教师

[交流] 磁控溅射的问题

磁控溅射使用绝缘材料靶会使基片温度上升,请问是为什么呢?
谢谢!
回复此楼

» 猜你喜欢

» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)

这个家伙很懒,什么也没有留下
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

glass114

木虫 (正式写手)

绝缘材料靶,一般使用RF溅射源,基片会受到能量粒子的轰击,温度会较金属靶直流溅射高些。
2楼2007-07-28 18:27:06
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

wolfliu

木虫 (著名写手)

自信,诚信,求实,方法。

你是用的RF?

[ Last edited by wolfliu on 2007-7-28 at 19:12 ]
不以求备取人,不以己长格物。
3楼2007-07-28 19:10:51
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

shiningx

荣誉版主 (知名作家)

小木虫模范教师

谢谢!
我是想请教一下这方面的知识,因为我看书上这么说的,但是想不出为什么。因为磁控溅射本身就是“低温高速”的特点。
这个家伙很懒,什么也没有留下
4楼2007-07-28 20:24:15
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
相关版块跳转 我要订阅楼主 shiningx 的主题更新
普通表情 高级回复 (可上传附件)
信息提示
请填处理意见