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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 材料测试 » 磁控溅射的问题
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shiningx

荣誉版主 (知名作家)

小木虫模范教师

[交流] 磁控溅射的问题

磁控溅射使用绝缘材料靶会使基片温度上升，请问是为什么呢？
谢谢！
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这个家伙很懒，什么也没有留下
1楼 2007-07-28 16:29:29
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glass114

木虫 (正式写手)
绝缘材料靶，一般使用RF溅射源，基片会受到能量粒子的轰击，温度会较金属靶直流溅射高些。
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2楼2007-07-28 18:27:06
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wolfliu

木虫 (著名写手)

自信，诚信，求实，方法。
你是用的RF？

[ Last edited by wolfliu on 2007-7-28 at 19:12 ]
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不以求备取人，不以己长格物。
3楼2007-07-28 19:10:51
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shiningx

荣誉版主 (知名作家)

小木虫模范教师
谢谢！
我是想请教一下这方面的知识，因为我看书上这么说的，但是想不出为什么。因为磁控溅射本身就是“低温高速”的特点。
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这个家伙很懒，什么也没有留下
4楼2007-07-28 20:24:15
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