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317001626

金虫 (小有名气)

[求助] CVD法在cu膜上制备CNTs

:victory大家好:
我准备利用磁控溅射制备一层cu膜,然后再用CVD法在这层铜膜上长层碳管。
基底是石英,然后铜膜厚度200nm左右,CVD通的是氢气和甲烷,
我用铜片实验时有时长在了铜片背面,正面什么都没有不知道为何~~

请问大家有类似的文献吗?或者制备经验~~~
欢迎交流哦~~
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317001626

金虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by orsdin at 2012-12-25 19:04:21
200nm 是不是太厚了,annealing之后形成的particle大不一定适合长单壁的,之前用Fe都是十几nm的膜

哦,·~谢谢提醒哦,~嘿嘿,我刚刚做,可否传点文献给我瞧瞧呢·~
3楼2012-12-26 09:59:51
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orsdin

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
200nm 是不是太厚了,annealing之后形成的particle大不一定适合长单壁的,之前用Fe都是十几nm的膜

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
2楼2012-12-25 19:04:21
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317001626

金虫 (小有名气)

没人能顶么~~
4楼2013-01-04 08:58:17
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