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[求助] CVD法在cu膜上制备CNTs

:victory大家好：
我准备利用磁控溅射制备一层cu膜，然后再用CVD法在这层铜膜上长层碳管。
基底是石英，然后铜膜厚度200nm左右，CVD通的是氢气和甲烷，
我用铜片实验时有时长在了铜片背面，正面什么都没有不知道为何~~

请问大家有类似的文献吗？或者制备经验~~~
欢迎交流哦~~

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1楼 2012-12-24 15:33:05

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orsdin

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【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1

200nm 是不是太厚了，annealing之后形成的particle大不一定适合长单壁的，之前用Fe都是十几nm的膜

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]

2楼2012-12-25 19:04:21

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引用回帖:

2楼: Originally posted by orsdin at 2012-12-25 19:04:21
200nm 是不是太厚了，annealing之后形成的particle大不一定适合长单壁的，之前用Fe都是十几nm的膜

哦，·~谢谢提醒哦，~嘿嘿，我刚刚做，可否传点文献给我瞧瞧呢·~

3楼2012-12-26 09:59:51

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没人能顶么~~

4楼2013-01-04 08:58:17

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