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如何计算表面覆盖率?
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weijiali
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如何计算表面覆盖率?
比如在金电极表面自组装形成一层硫醇分子膜,怎样计算硫醇膜在金电极上的表面覆盖率?有什么公式吗?
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1楼
2012-12-16 10:17:42
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Jackcd12
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2012-12-17 20:25:39
这两个过程之间就差一个“二次水冲洗”步骤,按我的理解:
过程一,可以理解为背景(空白)测试,认为二次水冲洗可以除去绝大部分的吸附的Hg2+,以此条件作为样品电流的参照值。
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2012-12-17 20:20:06
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Jackcd12
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2012-12-16 16:07:35
weijiali: 金币+5
2012-12-17 19:54:36
原则上,通过测量自组装前后电极-溶液界面电容(与电极面积相关)可以计算出电极有效面积,电容的测量可以通过伏安法,电化学阻抗法来实现。你再搜一些文章看看。
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2楼
2012-12-16 14:07:29
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2楼
:
Originally posted by
Jackcd12
at 2012-12-16 14:07:29
原则上,通过测量自组装前后电极-溶液界面电容(与电极面积相关)可以计算出电极有效面积,电容的测量可以通过伏安法,电化学阻抗法来实现。你再搜一些文章看看。
是你啊,我还要问你个问题呢,那个阳极伏安法侧汞离子,我想问你一下这两个过程有什么不同:
过程一:电极上修饰带巯基物质——浸泡在浓度为C 的汞离子溶液中——二次水冲洗——盐酸溶液中中扫SWV.
过程二:电极上修饰带巯基物质——含有汞离子浓度为C 的盐酸溶液中扫SWV。
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3楼
2012-12-17 19:59:56
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4楼
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Jackcd12
at 2012-12-17 20:20:06
这两个过程之间就差一个“二次水冲洗”步骤,按我的理解:
过程一,可以理解为背景(空白)测试,认为二次水冲洗可以除去绝大部分的吸附的Hg2+,以此条件作为样品电流的参照值。
不是啊,过程一测试ASV是在不含有汞离子的空白盐酸溶液中测试的,过程二是在含有汞离子的盐酸溶液中测试的
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5楼
2012-12-17 20:26:47
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