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weijiali

新虫 (正式写手)

[求助] 如何计算表面覆盖率?

比如在金电极表面自组装形成一层硫醇分子膜,怎样计算硫醇膜在金电极上的表面覆盖率?有什么公式吗?
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Jackcd12

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
weijiali: 金币+5, ★★★很有帮助, 谢谢!对我很有帮助! 2012-12-19 08:37:20
你这个方法比传统的方法有新意,就是不需要汞齐化。
这个过程类似于用电化学方法测DNA碱基配对情况,那个实验中用的是电化学物质铁氰化钾。
你再看看文献描述这种方法的工作原理,关键是富集到硫醇分子上的Hg ions (R-S-Hg) 能不能被电化学还原,还原成单质Hg后到哪儿去了(传统方法:形成金属汞齐);后面的溶解过程好理解。
Themoreamanlearns,themoreheknowshisignorance!
16楼2012-12-17 22:28:33
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Jackcd12

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
857688363: 金币+3, 感谢应助 2012-12-16 16:07:35
weijiali: 金币+5 2012-12-17 19:54:36
原则上,通过测量自组装前后电极-溶液界面电容(与电极面积相关)可以计算出电极有效面积,电容的测量可以通过伏安法,电化学阻抗法来实现。你再搜一些文章看看。
Themoreamanlearns,themoreheknowshisignorance!
2楼2012-12-16 14:07:29
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weijiali

新虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by Jackcd12 at 2012-12-16 14:07:29
原则上,通过测量自组装前后电极-溶液界面电容(与电极面积相关)可以计算出电极有效面积,电容的测量可以通过伏安法,电化学阻抗法来实现。你再搜一些文章看看。

是你啊,我还要问你个问题呢,那个阳极伏安法侧汞离子,我想问你一下这两个过程有什么不同:
过程一:电极上修饰带巯基物质——浸泡在浓度为C 的汞离子溶液中——二次水冲洗——盐酸溶液中中扫SWV.
过程二:电极上修饰带巯基物质——含有汞离子浓度为C 的盐酸溶液中扫SWV。
3楼2012-12-17 19:59:56
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Jackcd12

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

★ ★
weijiali: 金币+2, 有帮助 2012-12-17 20:25:39
这两个过程之间就差一个“二次水冲洗”步骤,按我的理解:
过程一,可以理解为背景(空白)测试,认为二次水冲洗可以除去绝大部分的吸附的Hg2+,以此条件作为样品电流的参照值。
Themoreamanlearns,themoreheknowshisignorance!
4楼2012-12-17 20:20:06
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