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melc576

木虫 (正式写手)

[交流] Zeta电势问题 已有1人参与

合成的纳米粒子本身带负电性,pH11时,Zeta电势-37.7,调节pH到3后转而带正电,Zeta电势8.7;
修饰后粒子希望带正电,pH11时,Zeta电势48.5,调节pH到3后反而变成负电性了?Zeta电势-12...求教这个数据怎么解释
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cs104

金虫 (正式写手)

我宅,故我帅;我帅,故我在。

★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
fds329: 金币+2, ICEPI+1, 感谢交流 2012-12-15 09:15:13
引用回帖:
3楼: Originally posted by melc576 at 2012-12-10 09:52:11
感谢感谢,其实我也是为了做对比实验,调节了pH值想看一下粒子的带电情况,结果测量Zeta电势的结果很意外,特别是重复实验后的结果也很不能理解。。。
每次的测量是重复3次的,而隔天再测量的波动会很大吗?...

稳定性也是要考虑的问题
前期隔一天左右测一下电位,如果稳定,再隔三天或隔一周测一下,至少要观察一周。(我以前是这样做的)

当然,如果是稳定性差的,隔两天电位绝对值已很低或是变化很大,就不需要再观察了。
要考虑换其它物质或加其它物质。
工作过的内容:chemically mechanical polishing、Nanoparticles polishing slurry、Lapping、etch、电镀及污水处理、丙烯酸树脂及其油墨
4楼2012-12-11 08:16:08
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cs104

金虫 (正式写手)

我宅,故我帅;我帅,故我在。

★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
地狱血幽灵: 金币+1, 欢迎常来 2012-12-08 14:42:45
应该是氢或氢氧根离子与修饰物质对纳米微粒表面的竞争的强弱所致。
也有可能是pH(即加入的酸或碱)对修饰物质的性质有一定的影响。

我以前做过纳米二氧化硅的修饰,即在液体纳米二氧化硅slurry中加入一种“物质A”,这种“物质A”在某个的pH下(还有其它特定条件,如一些分散剂等),能够吸附在二氧化硅微料表面,形成稳定的核壳结构(拍TEM,可以看到)。当pH改变时,吸附在二氧化硅表面的“物质A“会减少。
除了拍TEM,还做了Zeta电位,Zeta电位的结果和TEM结果是一致的。即zeta电位有一个最大绝对值。

当然,还做了对比实验,二氧化硅slurry不加入”物质A“,调pH的,zeta电位。
”物质A“在不同pH值下的zeta电位。
还试了不同的pH调节剂的zeta电位,发现盐酸、硝酸的影响也是不同,结果是氯离子会吸附在”物质A“的表面性质,导致不能与二氧化硅结合。

反正都是根据实验结果,解释现象的。
多想些对比实验做做,就能解释了。
工作过的内容:chemically mechanical polishing、Nanoparticles polishing slurry、Lapping、etch、电镀及污水处理、丙烯酸树脂及其油墨
2楼2012-12-08 10:34:23
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melc576

木虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by cs104 at 2012-12-08 10:34:23
应该是氢或氢氧根离子与修饰物质对纳米微粒表面的竞争的强弱所致。
也有可能是pH(即加入的酸或碱)对修饰物质的性质有一定的影响。

我以前做过纳米二氧化硅的修饰,即在液体纳米二氧化硅slurry中加入一种“物质A ...

感谢感谢,其实我也是为了做对比实验,调节了pH值想看一下粒子的带电情况,结果测量Zeta电势的结果很意外,特别是重复实验后的结果也很不能理解。。。
每次的测量是重复3次的,而隔天再测量的波动会很大吗?
3楼2012-12-10 09:52:11
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