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ahhnmay

[交流] 关于基片清洗的几个问题

我在相关文献上查到,对基片按如下步骤清洗
1.VH20:VNH4OH:VH2O2=5:1:1
2.VH2O:VHCl:VH2O2=5:1:1
3.去离子水
4.无水乙醇
每步各清洗30min,但在对不锈钢片进行清洗时发现了锈斑和锈迹,现有有个疑问就是每步清洗的目的?请哪位能给出合理解释
另外有个师姐用这种方法对玻璃片进行了清洗
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ahhnmay

谢谢tana3599102
有个师姐用这种方法清洗了载玻片作为基片,我用的是不锈钢片,清洗时在第2步时不锈钢片出现了锈斑,连超声清洗器都出现了锈迹。
今天我用两遍高纯水清洗,一遍无水乙醇清洗,根据我没找到,但是怕酸碱再把超声清洗器弄坏,也怕不锈钢片再生锈。
您可否给我提供一些关于基片清洗方面的资料
E-mail:ahhnmay@163.com
3楼2007-07-16 20:59:30
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tana3599102

金虫 (正式写手)

★ ★ ★
rabbit7708(金币+3):多谢应助,辛苦了!:)
1.VH20:VNH4OH:VH2O2=5:1:1 碱洗去除表面油污
2.VH2O:VHCl:VH2O2=5:1:1 酸洗去除表面氧化物
3.去离子水 洗去表面酸根离子等
4.无水乙醇 更好的增强分散能力(平铺能力)
2楼2007-07-16 08:28:54
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