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关于基片清洗的几个问题
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我在相关文献上查到，对基片按如下步骤清洗 1.VH20:VNH4OH:VH2O2=5:1:1 2.VH2O:VHCl:VH2O2=5:1:1 3.去离子水 4.无水乙醇 每步各清洗30min，但在对不锈钢片进行清洗时发现了锈斑和锈迹，现有有个疑问就是每步清洗的目的？请哪位能给出合理解释 另外有个师姐用这种方法对玻璃片进行了清洗 |
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 纳米片 |
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