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ahhnmay

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[交流] 关于基片清洗的几个问题

我在相关文献上查到，对基片按如下步骤清洗
1.VH20:VNH4OH:VH2O2=5:1:1
2.VH2O:VHCl:VH2O2=5:1:1
3.去离子水
4.无水乙醇
每步各清洗30min，但在对不锈钢片进行清洗时发现了锈斑和锈迹，现有有个疑问就是每步清洗的目的？请哪位能给出合理解释
另外有个师姐用这种方法对玻璃片进行了清洗

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1楼 2007-07-15 15:37:26

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tana3599102

金虫 (正式写手)

应助: 7 (幼儿园)
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帖子: 434
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虫号: 316555
注册: 2007-03-03
专业: 催化化学

★ ★ ★
rabbit7708(金币+3):多谢应助，辛苦了！：）

1.VH20:VNH4OH:VH2O2=5:1:1 碱洗去除表面油污
2.VH2O:VHCl:VH2O2=5:1:1 酸洗去除表面氧化物
3.去离子水洗去表面酸根离子等
4.无水乙醇更好的增强分散能力（平铺能力）

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2楼2007-07-16 08:28:54

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ahhnmay

应助: (幼儿园)
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虫号: 281733

谢谢tana3599102
有个师姐用这种方法清洗了载玻片作为基片，我用的是不锈钢片，清洗时在第2步时不锈钢片出现了锈斑，连超声清洗器都出现了锈迹。
今天我用两遍高纯水清洗，一遍无水乙醇清洗，根据我没找到，但是怕酸碱再把超声清洗器弄坏，也怕不锈钢片再生锈。
您可否给我提供一些关于基片清洗方面的资料
E-mail:ahhnmay@163.com

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3楼2007-07-16 20:59:30

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