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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻图形脱离硅片并裂开
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zhanjiang

木虫 (著名写手)

[求助] 光刻图形脱离硅片并裂开

为什么光刻图形脱离了硅片基底，并且一块一块裂开了，同样的参数之前做的没有出现过这种问题，就昨天做的居然变成这个样子了，求助各位大神，有没有遇到过类似情况的兄弟姐妹们。

IMG_20121106_095604_0.jpg
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yswyx的关于光刻的各种回复

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1楼 2012-11-06 10:02:01
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
5楼: Originally posted by zhanjiang at 2012-11-06 21:49:05
哦，涂胶之前烘干没有我现在也不确定了，我后面再做一次实验注意一下这个问题看看。你说的这个particle测试是啥意思呀？我没有做。我是用丙酮超声再加SPM清洗硅片的。这个是SU8胶，我也觉得很诡异，被吓住了。谢谢 ...

几个可能。
1.你做完水虎鱼以后没冲干净，酸雾留在硅片上了。
2.丙酮完了你没做乙醇和去离子水。
3. 涂胶之前没烘干。
4. 没做HMDS。一般硅片有潮气的情况下，SU8的确非常容易脱落，由于SU8是环氧树脂基的，机械性能好，于是就这德行了。
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zhanjiang
6楼2012-11-06 22:05:47
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你用的是光刻胶？还是别的材料？
你这个片子，以肉眼可见的情况，真是脏的不得了。各种颗粒和水渍遍布其上啊。
薄膜脱落，和衬底没有清洗干净，以及片子表面没有烘干，有潮气有非常直接的关系。
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2楼2012-11-06 14:26:00
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zhanjiang

木虫 (著名写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2012-11-06 14:26:00
你用的是光刻胶？还是别的材料？
你这个片子，以肉眼可见的情况，真是脏的不得了。各种颗粒和水渍遍布其上啊。
薄膜脱落，和衬底没有清洗干净，以及片子表面没有烘干，有潮气有非常直接的关系。

这个是光刻胶，这个片子之前还是蛮干净的，这是显影之后的情况，显影之后貌似是挺脏的。你说的片子表面没有烘干，是指匀胶之前没有烘干呀。。。。貌似烘干了的。衬底在做实验之前还是蛮干净的。还有没有其他的可能性呀？谢谢你了啊。
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3楼2012-11-06 14:44:41
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

我说的是你涂胶之前没有烘干。
衬底在做实验之前很干净？你做particle测试了？你怎么清洗的？
还有，你这用的是啥光刻胶啊，看着相当诡异。
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4楼2012-11-06 21:15:29
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