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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 设计与制备 » 如何在溅射仪中引入水蒸气
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floljf

金虫 (正式写手)

[交流] 如何在溅射仪中引入水蒸气

诸位大虾，目前在材料的制备中需要引入H源，大家帮忙给些意见！

目前我是准备在溅射仪中引入水蒸汽，如何实现？水蒸汽的引入对后续设备的真空度的影响如何？有经验的大虾帮忙！

金币多多，发完了后续补充，请多多给建议！
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1楼 2012-11-01 09:13:53
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bazhuayuyu

木虫 (著名写手)
★ ★
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floljf: 金币+1 2012-11-01 12:11:48
为什么不用氢气？
只是做氢源的话不需要用水蒸气啊
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3楼2012-11-01 10:16:56
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bazhuayuyu

木虫 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
你要做什么薄膜？帮你想想别的气源
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11楼2012-11-01 20:32:33
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bazhuayuyu

木虫 (著名写手)
★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
floljf: 金币+1 2012-11-02 20:15:15
引用回帖:
12楼: Originally posted by floljf at 2012-11-02 08:36:27
这个可能也是的，有用MOCVD做ZnO的，氧源采用的就是水蒸汽，不知道是不是他们的设备腔体材料是否是特殊的呢...

CVD与PVD差别很大，不能这样类比。ALD其实就是把CVD的反应在空间或时间上分割成两个半反应而已，归根到底还是CVD
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13楼2012-11-02 09:32:45
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bazhuayuyu

木虫 (著名写手)
★
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引用回帖:
15楼: Originally posted by floljf at 2012-11-02 20:14:44
氧化锡薄膜...

你用的是陶瓷靶还是金属靶
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16楼2012-11-02 20:44:29
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