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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 硅 湿法刻蚀 掩膜
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戈多来了没

新虫 (初入文坛)
supernatural: 屏蔽内容, 不允许在帖子里留下联系方式，如需联系，请站内 2014-11-13 16:06:07
本帖内容被屏蔽
11楼2014-11-13 15:03:31
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3mper

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
10楼: Originally posted by hello_Jzz at 2014-10-11 10:33:03
这位师兄，你好，请问如果用光刻胶做掩膜，用ICP刻蚀，这个过程，不会对光刻胶造成损坏吗？
我现在遇到一个问题，我的硅片是500微米厚加300nm后的SiO2，现在想在上面腐蚀出一个600微米大的窗口，但是只腐蚀Si，保 ...

我也想知道，有什么消息可以通知下吗

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12楼2016-12-08 21:45:57
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