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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » PVD与CVD方法沉积的SiO2、SiN膜层性能差异
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jamie82

木虫 (著名写手)

一三三

[求助] PVD与CVD方法沉积的SiO2、SiN膜层性能差异

请问谁知道PVD方法与CVD方法沉积的SiO2薄膜性质上有何差异？主要想知道致密性、耐腐蚀性、应力之间有何差异。
另还想问一下能使用PVD方法制备SiN薄膜吗？其性能又与CVD方法沉积的薄膜差异怎样？
请大侠不吝赐教
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心怀感恩，凡人与事都值得我感恩一番。
1楼 2012-09-04 20:31:07
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swxby

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★
nofrunolif: 金币+1, 鼓励交流 2012-12-01 18:58:55
PVD用的多，CVD你要用硅烷？其他不能一概而论，你要什么应用最好还是用氧化扩散炉吧，效果最好。PVD生长较慢，但是致密性还行。SiN应该没问题，BN，AlN都能做出来，你溅射的时候通氮气不就好了。
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喵了个咪的~
2楼2012-11-05 20:12:38
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wu1008

金虫 (著名写手)
这种差异没有什么定论的东西，主要看参数的控制

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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3楼2012-12-01 16:18:32
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