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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 金属 » 表面处理 » 各位高手们，请问PVD与CVD的区别！
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shushu630

禁虫 (小有名气)
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1楼 2011-12-19 11:07:27
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ljc8828

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
engle028(金币+1): 感谢参与 2011-12-19 15:01:43
PVD：
用物理方法(如蒸发、溅射等)，使镀膜材料汽化在基体表面，沉积成覆盖层的方法
CVD：
用化学方法使气体在基体材料表面发生化学反应并形成覆盖层的方法
区别：化学气相沉积(Chemical vapor deposition，简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。它本质上属于原子范畴的气态传质过程。与之相对的是物理气相沉积
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shushu630
2楼2011-12-19 15:01:28
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328895864

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
zhyq8767(金币+1): 感谢交流！ 2011-12-19 17:40:03
一个是物理气象沉积，一个是化学气象沉积，一个要发生化学反应，一个没有化学反应
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3楼2011-12-19 17:27:13
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shushu630

禁虫 (小有名气)
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4楼2011-12-19 17:29:27
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lancho

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
这是个原则问题啊
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5楼2011-12-29 09:42:28
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