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summer800808金虫 (初入文坛)
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[交流]
the rest potential??
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最近在做循环伏安法，第一次接触，有一些问题想请高手帮助。 1，什么是the rest potential,如何测量啊？ 2，如果我在扫完氧化后机子delay一分钟左右再扫描还原，在停顿后是还原的彻底些，还是氧化的彻底些？ 3，金属相同氧化态，不同化学环境的情况下，同时被氧化，出峰的位置一样吗？ 谢谢您的解答 [ Last edited by 小红豆 on 2007-6-12 at 22:59 ] |
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tu_xh0804
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3楼2007-06-20 17:14:03
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magicpopo(金币+1,VIP+0):多谢解答！
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楼主说得让我有点晕，很多话看了半天才理解，尝试回答一下。 1.麻烦楼主说一下中文，我英文不好，没弄懂 the rest potential 什么意思。 2.你说的是从负电位向正电位扫描再反扫吧？扫完后停顿一下，对氧化过程是没有影响的，因为氧化过程已经结束了。但是一停顿，生成的氧化产物扩散，这样就不利于反扫的还原过程了。（我还没见过扫完一半停顿一下再扫反向的情况，不知你为什么这样做？这样做的后果是经典的公式都不能套用了，你怎么分析结果？） 3.理论上说，体系改变，根据热力学计算出来的电极电位也肯定改变了，所以出峰的位置自然就不一样了。 |
2楼2007-06-20 13:12:51
4楼2007-06-21 08:27:15
tu_xh0804
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