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summer800808金虫 (初入文坛)
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the rest potential??
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最近在做循环伏安法,第一次接触,有一些问题想请高手帮助。 1,什么是the rest potential,如何测量啊? 2,如果我在扫完氧化后机子delay一分钟左右再扫描还原,在停顿后是还原的彻底些,还是氧化的彻底些? 3,金属相同氧化态,不同化学环境的情况下,同时被氧化,出峰的位置一样吗? 谢谢您的解答 [ Last edited by 小红豆 on 2007-6-12 at 22:59 ] |
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magicpopo(金币+1,VIP+0):多谢解答!
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楼主说得让我有点晕,很多话看了半天才理解,尝试回答一下。 1.麻烦楼主说一下中文,我英文不好,没弄懂 the rest potential 什么意思。 2.你说的是从负电位向正电位扫描再反扫吧?扫完后停顿一下,对氧化过程是没有影响的,因为氧化过程已经结束了。但是一停顿,生成的氧化产物扩散,这样就不利于反扫的还原过程了。(我还没见过扫完一半停顿一下再扫反向的情况,不知你为什么这样做?这样做的后果是经典的公式都不能套用了,你怎么分析结果?) 3.理论上说,体系改变,根据热力学计算出来的电极电位也肯定改变了,所以出峰的位置自然就不一样了。 |
2楼2007-06-20 13:12:51
tu_xh0804
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3楼2007-06-20 17:14:03
4楼2007-06-21 08:27:15
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5楼2007-06-21 08:41:33
6楼2007-06-22 09:05:01
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8楼2007-10-26 16:49:45









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